1、真空離子鍍膜定義
真空離子鍍膜就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時，把蒸發物或其反應物蒸鍍在基片上。
離子鍍把輝光放電、等離子體技術與真空蒸發鍍膜技術結合在一起。
2、真空離子鍍膜特點
（1）鍍層附著性好，膜層不易脫落；
（2）繞鍍性好，改善了表面的覆蓋度；
（3）鍍層質量好；
（4）沉積速率高，成膜速度快；
（5）鍍膜所適用的基體材料與膜材范圍廣。
3、真空離子鍍膜原理
真空離子鍍膜是真空蒸發和真空濺射鍍膜結合的一種鍍膜技術。離子鍍的過程是在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質（膜材）部分離化,在工作氣體離子或者被蒸發物質的離子轟擊作用下,把蒸發物質或其反應物沉積在被鍍基片表面的過程。
